馬弗爐是一種通用的加熱設(shè)備，適用于煤炭、電力、化工、冶金、水泥、地質(zhì)勘探和醫(yī)藥、科研等行業(yè)和部門進(jìn)行工業(yè)分析。馬弗爐蒸發(fā)點(diǎn)的默認(rèn)值是非常標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)試。 默認(rèn)設(shè)置的后果來自測(cè)試環(huán)境。 由于煤的蒸發(fā)點(diǎn)是確定的，因此應(yīng)嚴(yán)格遵守我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的規(guī)定。 現(xiàn)在主要的技術(shù)要求總結(jié)如下：

馬弗爐的溫度應(yīng)嚴(yán)格控制在900℃±10℃的范圍內(nèi)。 打開爐門并打開樣品后，爐溫在3秒鐘內(nèi)恢復(fù)到900℃±10℃。

馬弗爐加熱時(shí)間的計(jì)時(shí)器使用發(fā)光計(jì)，即將樣品送至高溫爐高溫區(qū)的起點(diǎn)時(shí)，直到樣品與高溫分離為止的時(shí)間為7分鐘爐。 否則，應(yīng)制造樣品并再次稱重。

馬弗爐默認(rèn)的蒸發(fā)點(diǎn)使用帶蓋的普通坩堝。 稱量樣品和坩堝蓋。 當(dāng)坩堝在爐中燃燒時(shí)，應(yīng)防止坩堝與坩堝之間以及坩堝與高溫爐壁之間直接接觸。

馬弗爐在內(nèi)部計(jì)時(shí)中，如果黑色煙霧在坩堝或坩堝蓋上積聚，則也認(rèn)為該測(cè)試已在制造。 這是因?yàn)槊旱恼舭l(fā)量太大，并且逸出合成的過程太快。 此時(shí)，應(yīng)將煤樣品壓成團(tuán)塊，切成小塊，然后放置，或者減小樣品尺寸并適當(dāng)放置。

馬弗爐的主要目的是要求機(jī)器工業(yè)加熱機(jī)器的原始材料，毛坯和其他零件。 例如在軋制板之前加熱毛坯和鍛造加熱。 機(jī)械零件和半廢品的熱解決方案，以改善其機(jī)械功能，例如淬火，回火，退火，正火，氣體滲碳，氮化等。它還用于燒結(jié)，釬焊，低電阻的整體電阻爐 陶瓷玻璃行業(yè)中的非金屬熔煉和加熱。

系統(tǒng)硬件采用中綴形式編程，主要是時(shí)鐘中綴順序，主要由輸出分辨率序列，控制算法序列，可視化分辨率，輸入分辨率和自診斷序列組成。 儀表通電后，將給出初始化順序，并且時(shí)間每500ms后綴一次。 后綴輸入后，時(shí)鐘后綴。 對(duì)于純滯后和大彈性鏈接控制，通常采用PID和PID控制算法的集成。 在常規(guī)PID控制中，當(dāng)系統(tǒng)干擾較大且設(shè)定值較寬且寬度上下時(shí)，由于偏差大且系統(tǒng)具有柔韌性和滯后性，在積分項(xiàng)的作用下，較大和諧將會(huì)發(fā)生。 這在溫度快速變化的過程中尤其重要。 因此，采用積分措施的積分，即當(dāng)偏差較大時(shí)，禁止積分作用，僅當(dāng)偏差較大時(shí)才輸入積分作用。