? 離心電鍍設備工作原理：

設備運行時，產品放置于旋轉的陰極鍍缸中，利用旋轉產生的離心力，將小規格產品主動與陰極壁碰撞接觸，電鍍過程中電鍍陽極及藥水通過設置在旋轉槽旁邊的移動手臂深入至旋轉缸內，陰極旋轉缸正轉和反轉，帶動陰極旋轉，使被電鍍的微型電子元件形成離心作用，在陽極與陰極之間向陰極壁方向運動并與陰極壁碰撞后不斷翻滾，使被電鍍的微型電子元件能高效而均勻上鍍。

離心電鍍設備控制系統由PLC及其擴展模塊、HMI組成，控制系統負責控制旋轉電鍍缸、陽極及各輔機的動作控制及參數設置、存儲。設備具備24小時不間斷全自動連續生產能力，自動化程度高，工藝參數控制精確。

? 適用范圍：

離心電鍍設備適用于英制尺寸01005、0201、0402等多規格小尺寸片式電子元器件（片式電容、片式電阻、片式電感）產品的電鍍鎳、錫。

2 單缸離心鍍（型號：HLXD-04M）產品介紹：

? 設備參數：序號內容指標1設備型號HLXD-01M2設備外形尺寸1500（L）*1640（W）*2450（H）（mm）3設備重量約1000kg4適用產品0402/0201/01005片式電子元器件電鍍鎳錫5電鍍產量3KK/批  0201/01005產品6旋轉鍍缸尺寸Φ328mm*80mm7電鍍時間3-4小時/批 根據產品可調整8離心轉速65-300 rpm根據產品可調9電鍍電源36V/100A10出料方式真空出料? 設備特點：

1） 全自動運行，設備運行安全、穩定可靠；

2） 電鍍工藝參數可根據產品靈活調整；

3） 產品無需添加陪鍍物及取消分選工段，提高了生產效率，降低了運營成本；

4） 占地空間小、運行時間短；

? 設備參數：序號內容指標1設備型號HLXD-04M2設備外形尺寸約為4700（L）*3000（W）*2700(H)mm3設備重量約3000kg4適用產品0402/0201/01005片式電子元器件電鍍鎳錫5電鍍產量3KK/缸*4缸 0201/01005產品6旋轉鍍缸尺寸Φ360mm*50mm7電鍍時間2.5-4小時/批8離心轉速150-450 rpm 根據產品可調9電鍍電源36V/100A10出料方式真空/自動出料11排液方式自動排液? 設備特點：

1） 采用4缸獨立設計，每個缸都可以獨立設置工藝參數，獨立運行互不影響；

2） 全自動運行，設備運行安全、穩定可靠；

3） 電鍍工藝參數可根據產品靈活調整；

4） 4缸共用電鍍母槽，母槽內配置電解裝置，具備在線電解功能；

5） 配置自動出料功能，解決了真空出料操作復雜、溶液混料、出料效率低等問題；

6） 產品無需添加陪鍍物及取消分選工段，提高了生產效率，降低了運營成本；

7） 占地空間小、運行時間短；

2 四缸離心鍍（型號：HLXD-04M）產品介紹：